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液浸密着露光

Liquid immersion contact exposure

密着露光では、レジストを塗布した基盤にフォトマスクを密着させるが、ウェハが反っていたり表面に凹凸があったりすると完全に密着できず光の回折で微細パターンが正しく転写できなくなる。この場合、基板とフォトマスクの間に水を入れると空気に対して水の屈折率が大きいため屈折や反射が小さくなり微細パターンの転写が可能になる。