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2021/10/20 06:03 質量減衰パラメータ – [mass damping parameter] dmc02 +8 B
2021/10/20 06:01 換算流速 – [reduced velocity] dmc02 +4 B
2021/10/20 05:59 モリソンモデル – [Morison’s model] dmc02 +6 B
2021/10/20 05:55 スクルートン数 – [scruton number] dmc02 +8 B
2021/10/12 18:55 換算減衰率 – [reduced damping] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:54 音響励起振動 – [acoustically induced vibration] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:49 バフェッティング – [buffeting] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:47 ソンドハウス管 – [sondhauss tube] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:44 シンギングフレーム – [singing flame] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:39 熱音響 – [thermoacoustics] dmc02 -29 B
2021/10/12 18:26 レイケ管 – [Rijke tube] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:24 ガーゼトーン – [gauze tone] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:21 流力弾性振動 – [fluidelastic vibration] dmc02 ±0 B
2021/10/12 18:20 Connorsの式 – [Connors formula] dmc02 +6 B
2021/10/12 09:23 ファン・デル・ポール方程式 – 作成 dmc02 +393 B
2021/10/11 09:45 チキソトロピー – jsme_daikoku -10 B
2021/10/05 20:01 流動励起振動 – 作成 dmc02 +814 B
2021/10/05 20:00 流体構造連成 – 作成 dmc02 +427 B
2021/10/05 19:59 乱流励起振動 – 作成 dmc02 +587 B
2021/10/05 19:58 平均法 – 作成 dmc02 +566 B
2021/10/05 19:57 負減衰 – 作成 dmc02 +747 B
2021/10/05 19:56 付加減衰 – 作成 dmc02 +536 B
2021/10/05 19:55 付加慣性モーメント – 作成 dmc02 +558 B
2021/10/05 19:54 燃焼振動 – 作成 dmc02 +623 B
2021/10/05 19:52 燃焼轟音 – 作成 dmc02 +358 B
2021/10/05 19:50 等価減衰係数 – 作成 dmc02 +670 B
2021/10/05 19:48 対称渦 – 作成 dmc02 +584 B
2021/10/05 19:44 気柱振動 – 作成 dmc02 +480 B
2021/10/05 19:41 レインバイブレーション – 作成 dmc02 +619 B
2021/10/05 19:39 ミスチューニング – 作成 dmc02 +883 B
2021/10/05 19:37 ホールトーン – 作成 dmc02 +1.1 KB
2021/10/05 19:36 ピッチング – 作成 dmc02 +417 B
2021/10/05 19:34 バルジング – 作成 dmc02 +431 B
2021/10/05 19:32 ハウスナー理論 – 作成 dmc02 +697 B
2021/10/05 19:30 ハイドロホワール – 作成 dmc02 +903 B
2021/10/05 19:28 スプリッタプレート – 作成 dmc02 +405 B
2021/10/05 19:25 サージドラム – 作成 dmc02 +122 B
2021/10/05 19:24 クロスばね – 作成 dmc02 +1.8 KB
2021/10/05 19:23 キャビティトーン – [cavity tone] dmc02 ±0 B
2021/10/05 19:20 ガスト – 作成 dmc02 +417 B
2021/10/05 19:16 Lomakin効果 – 作成 dmc02 +1.1 KB
2021/10/05 19:14 Fitz-hughのマップ – 作成 dmc02 +511 B
2021/10/05 18:48 音源 – [sound source] dmc02 +103 B
2021/10/05 18:45 四重極子音源 – 作成 dmc02 +639 B
2021/10/05 18:43 双極子音源 – 作成 dmc02 +617 B
2021/10/05 18:42 単極子音源 – 作成 dmc02 +619 B
2021/10/05 18:26 臨界温度（超電導転移温度） – 作成 dmc02 +483 B
2021/10/05 18:23 臨界温度 – [critical temperature (superconducting transition temperature)] dmc02 -429 B
2021/10/05 18:22 超電導材料 – [super conductor] dmc02 +5 B
2021/10/05 18:22 磁気浮上 – [magnetic levitation] dmc02 +15 B
2021/10/05 18:21 超電導磁気軸受 – [superconducting magnetic bearing] dmc02 +18 B
2021/10/05 18:20 マイスナー効果（完全反磁性） – 作成 dmc02 +691 B
2021/10/05 18:20 マイスナー効果 – [Meissner effect (perfect diamagnetism )] dmc02 -635 B
2021/10/05 18:19 磁束ピンニング効果（磁束ピン止め効果） – 作成 dmc02 +613 B
2021/10/05 18:18 磁束ピンニング効果 – [flux pinning effect] dmc02 -545 B
2021/10/05 18:17 （磁気の）ヒステリシス損失 – 作成 dmc02 +599 B
2021/10/05 18:16 磁気の_ヒステリシス損失 – [(magnetic) hysteresis loss] dmc02 -549 B
2021/10/05 18:15 磁気ダンパ – [magnetic damper] dmc02 +5 B
2021/10/05 18:14 渦電流損失 – 作成 dmc02 +619 B
2021/10/05 18:13 渦電流損失 – [eddy current loss] dmc02 -590 B
2021/10/05 18:11 タッチダウンベアリング – 作成 dmc02 +720 B
2021/10/05 18:10 タッチダウンベアリング – [touch-down bearing] dmc02 -679 B
2021/10/05 18:09 スラスト磁気軸受 – 作成 dmc02 +657 B
2021/10/05 18:08 スラスト磁気軸受 – [thrust magnetic bearing] dmc02 -623 B
2021/10/05 18:06 ラジアル磁気軸受 – 作成 dmc02 +731 B
2021/10/05 18:03 ラジアル磁気軸受 – [radial magnetic bearing] dmc02 -696 B
2021/10/03 09:51 四重極子音源 – [quadrupole source] dmc02 -590 B
2021/10/03 09:49 1007120 – [dipole source] dmc02 -595 B
2021/10/03 09:46 単極子音源 – [monopole source] dmc02 -588 B
2021/10/03 09:28 双極子音源 – 削除 dmc02 -31 B
2021/10/03 09:13 双極子音源 – [dipole source] dmc02 -551 B
2021/10/03 09:04 単極子音源 – 削除 dmc02 -31 B
2021/10/03 08:09 スナッバ – [snubber] dmc02 +33 B
2021/10/01 12:46 液体金属（Liquid metal） – mnm02 +4 B
2021/10/01 12:40 マイクロロボット（Micro Robot） – mnm02 +39 B
2021/09/24 18:24 μTAS（Micro total analysis system） – mnm02 -1 B
2021/09/24 18:19 光ピンセット（Optical tweezer） – mnm02 +341 B
2021/09/24 17:23 DEA (ダイエレクトリック・エラストマー・アクチュエータ) – mnm02 -12 B
2021/09/24 17:22 SEMA（ソフト・エレクトロマグネティック・アクチュエータ） – mnm02 +5 B
2021/09/24 17:19 2光子マイクロ光造形法 – mnm02 +58 B
2021/09/23 20:07 マイクロマニピュレーション – mnm02 +52 B
2021/09/23 19:41 SMAアクチュエータ – mnm02 -21 B
2021/09/23 19:18 LQE (液晶エラストマー) – 作成 mnm02 +735 B
2021/09/23 18:49 DMD (デジタルミラーデバイス) – 作成 mnm02 +404 B
2021/09/23 18:48 マイクロ・ナノ – [DMD (デジタルミラーデバイス)] mnm02 -404 B
2021/09/23 18:47 デジタルミラーデバイス – 削除 mnm02 -339 B
2021/09/23 18:46 デジタルミラーデバイス_dmd – 削除 mnm02 -338 B
2021/09/18 18:22 syntax – 削除 dmc02 -36 B
2021/09/18 17:55 床応答スペクトル – [floor response spectrum] dmc02 ±0 B
2021/09/18 16:48 フォトマスク – 作成 mnm04 +372 B
2021/09/18 16:46 スピンコーティング – 作成 mnm04 +258 B
2021/09/18 16:45 アライメントマーク – 作成 mnm04 +155 B
2021/09/18 16:44 現像液 – 作成 mnm04 +246 B
2021/09/18 16:42 現像 – 作成 mnm04 +356 B
2021/09/18 16:41 剥離液 – 作成 mnm04 +157 B
2021/09/18 16:40 リフトオフ – 作成 mnm04 +461 B
2021/09/18 16:38 スパッタリングターゲット – 作成 mnm04 +473 B
2021/09/18 16:32 ピラニア洗浄 – 作成 mnm04 +430 B
2021/09/18 16:28 シリコンウエハ – 作成 mnm04 +232 B
2021/09/15 10:14 マニピュレーション – [manipulation] mnm02 -72 B

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