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犠牲層エッチング [2021/09/14 00:06] – 作成 mnm03 | 犠牲層エッチング [2022/12/15 11:06] (現在) – [Sacrificial etching] mnm03 | ||
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===== 犠牲層エッチング ===== | ===== 犠牲層エッチング ===== | ||
- | ==== Sacrificial etching ==== | ||
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- | 異なる材料からなる中間層を選択的にサイドエッチングし、最上部の構造体をリリースするマイクロ加工プロセス。フッ酸耐性のある構造体であれば、酸化シリコンを犠牲層として用い、HF水溶液やHF蒸気によるエッチングを行うことが多い。 | ||
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- | ~~NOCACHE~~ | ||