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イオン化損傷

ionized damage

 高エネルギーの放射線粒子の進入で材料の構成体である原子がイオン化され,特に半導体や絶縁物では電子がはじきとばされて正孔のみが取り残され酸化膜中に存在するトラップに捕捉されて正電荷になったり,あるいは界面順位を生成する現象.

05/1000440.txt · 最終更新: 2017/07/19 08:48 by 127.0.0.1