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CVD法

chemical vapour deposition method

 セラミック薄膜を基材表面に気相化学合成(化学蒸着)する方法.通常は薄膜の製造に用いるが,セラミックスや炭素基複合材料の製造方法としても用いられる.この場合セラミックスや炭素繊維のプリフォーム体の空げきにマトリックスを気相成長させるが,ボイドフリーのマトリックスを生成させるためには温度分布や圧力に関する精密制御を要する.気相反応を起こすためには気体分子を活性化する必要があり,その手段として高温が用いられていたが,近年ではプラズマやレーザを用いる場合が多くなってきた.