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PVD法

physical vapour deposition method

 セラミック膜の形成方法の一つ.通常\({10^{ - 3}} \sim {10^{ - 5}}{\rm{Pa}}\)の真空中で加熱やプラズマ照射などの手段で固体源から構成原子を気相状態にし,基板上に移送・凝集させて製膜する方法.スパッタリング,真空蒸着,イオンプレーティング法などがある.