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イオン注入装置

ion implanter

 加速されたイオンをウェーハに打込む装置.各種元素のプラズマを生成してイオンを発生させるためのイオン源,イオンを引出すための引出し電極系,イオンを加速するための加速管部,イオン源で生成された種々のイオンのうち,注入に必要なイオンを選別するための質量分析系,加速されたイオンをウェーハに正確に打込むために高真空の空間を有する注入室などから構成される.

15/1000450.txt · 最終更新: 2017/07/19 08:49 by 127.0.0.1