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CVD装置

chemical vapor deposition system

 薄膜を形成する元素からなるガスをウェーハ上に供給し,気相あるいはウェーハあるいはガラス表面での化学反応によって薄膜を形成させる装置.一般に使用されるガスは,単体あるいは数種の化合物ガスで,これを励起するために熱エネルギーまたはプラズマ放電が用いられる.最近では,UV光励起,レーザ励起のCVD装置も開発されている.