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電子線描画装置

electron beam lithography system

 電子線(電子ビーム;EB)を用いて,フォトマスクあるいはレチクルと呼ばれるガラス基板上のフォトレジストにパターンを描画する装置.電子ビームを一定振幅で捜査し,パターンデータに応じて電子ビームをオン,オフすることで,所定のパターンを形成するラスタスキャン式電子線描画装置と,必要な部分のみに電子ビームを二次元的に走査して,所定のパターンを形成するベクタスキャン式描画装置がある.また,半導体基板上のフォトレジストに直接電子ビームで回路パターンを描画するEB直接描画装置も開発されている.