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パターン欠陥検査装置

pattern defect inspection system

 半導体製造に用いられる検査装置の一つでフォトマスクあるいはレチクルと呼ばれるガラス基板上のパターンの寸法,形状や欠陥の有無を検査する装置.検査の仕方によって,チップ欠陥検査装置とデータ欠陥検査装置に大別できる.最近では,DRAMのように二次元的に規則性のある繰返しパターンを,ホログラム技術を応用して繰返しパターンの平均像と比較することにより,欠陥を調べるホログラフィック欠陥検査装置も開発されている.ウェーハあるいはマスク上に付着した異物を検査する装置を,異物検査装置ともいう.