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エキシマレーザ

excimer laser

 自然状態では結合しない2種類のガス(例えばArとF2,XeとCl2など)を電子ビームや放電で励起して誘導放出を起こさせるときに発生する紫外線パルスレーザの総称.ArF(波長193nm),KrF(248nm),XeCl(308nm),XeF(351nm)などのエキシマレーザが実用化されている.エキシマレーザ加工は,光子吸収により分子結合を直接切断する非熱的加工法であり,高精度微細加工が可能,加工変質層や熱影響層が少ない,などの特徴を有する.今後の半導体リソグラフィー用ステッパの光源としても有望とされている.