内容へ移動
ユーザ用ツール
管理
ユーザー登録
ログイン
サイト用ツール
検索
ツール
文書の表示
以前のリビジョン
バックリンク
最近の変更
メディアマネージャー
サイトマップ
ユーザー登録
ログイン
>
最近の変更
メディアマネージャー
サイトマップ
現在位置:
機械工学事典
»
生産加工・工作機械
»
エキシマレーザ
この文書は読取専用です。文書のソースを閲覧することは可能ですが、変更はできません。もし変更したい場合は管理者に連絡してください。
====== エキシマレーザ ====== ==== excimer laser ==== {{tag>..c18}} 自然状態では結合しない2種類のガス(例えばArとF<sub>2</sub>,XeとCl<sub>2</sub>など)を電子ビームや放電で励起して誘導放出を起こさせるときに発生する紫外線パルスレーザの総称.ArF(波長193nm),KrF(248nm),XeCl(308nm),XeF(351nm)などのエキシマレーザが実用化されている.エキシマレーザ加工は,光子吸収により分子結合を直接切断する非熱的加工法であり,高精度微細加工が可能,加工変質層や熱影響層が少ない,などの特徴を有する.今後の半導体リソグラフィー用ステッパの光源としても有望とされている. ~~NOCACHE~~
18/1001016.txt
· 最終更新: 2023/02/17 11:34 by
127.0.0.1
ページ用ツール
文書の表示
以前のリビジョン
バックリンク
文書の先頭へ