内容へ移動
ユーザ用ツール
管理
ユーザー登録
ログイン
サイト用ツール
検索
ツール
文書の表示
以前のリビジョン
バックリンク
最近の変更
メディアマネージャー
サイトマップ
ユーザー登録
ログイン
>
最近の変更
メディアマネージャー
サイトマップ
現在位置:
機械工学事典
»
生産加工・工作機械
»
X線リソグラフィー
この文書は読取専用です。文書のソースを閲覧することは可能ですが、変更はできません。もし変更したい場合は管理者に連絡してください。
====== X線リソグラフィー ====== ==== X-ray lithography ==== {{tag>..c15 ..c18}} X線を光源とする高集積回路パターン作成のための露光技術.X線を透過する支持膜(メンブレン)上に,X線吸収材料でパターン形成を行ったマスクと,レジストを塗布したウェーハとを接近して配置し,マスクを通してX線を照射することによりほぼ等倍で露光する.X線源としては電子線励起型,レーザプラズマ型,シンクロトロン型などのタイプが多く用いられる.X線波長が0.1~100nmと従来のステッパ用光源よりもはるかに短いので次世代の高集積デバイス用露光技術として注目されている. ~~NOCACHE~~
18/1001105.txt
· 最終更新: 2017/07/19 08:50 by
127.0.0.1
ページ用ツール
文書の表示
以前のリビジョン
バックリンク
文書の先頭へ