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フォトレジスト

photoresist

 フォトファブリケーション用のマスク材料.これを材料表面に塗布した後,紫外線を照射することによって水や有機溶剤などの現像液に対する溶解性を変化させ,エッチングやフォトフォーミングの材料基板に耐食性のあるマスクパターンを形成する.