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レーザドーピング
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====== レーザドーピング ====== ==== laser doping ==== {{tag>..c18}} レーザ照射によりシリコンやGaAs基板の表面を瞬間的に加熱して不純物を拡散させる方法.エキシマレーザを用い,局部・微細領域へ選択的に高い表面濃度で不純物のドープが可能.高濃度でもキャリヤ活性率を高くできる. ~~NOCACHE~~
18/1013666.txt
· 最終更新: 2017/07/19 08:50 by
127.0.0.1
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