目次
計算力学 バイオエンジニアリング 環境工学 産業・化学機械と安全 宇宙工学 技術と社会 材料力学 機械材料・材料加工 流体工学・流体機械 熱工学 エンジンシステム 動力エネルギーシステム 機械力学・計測制御 ロボティクス・メカトロニクス 情報・知能・精密機械 機素潤滑設計 設計工学・システム 生産加工・工作機械 FA（ファクトリーオートメーション） 交通・物流 マイクロ・ナノ 編集委員・執筆者
フォトリソグラフィーにおいて，レジストと共に不要な薄膜を除去する工程．あらかじめパターニングしたレジスト上に薄膜を形成し，その後レジストと共にレジスト上の薄膜を除去する．これにより，レジストの無かった部分にのみ薄膜を残し，目的のパターンを得ることができる．
