クヌッセン数Kn（＝λ/L，λ：平均自由行程，L：代表長さ）が0.1～10の希薄流を中間流といい，すべり流(Kn＜0.1)と自由分子流(Kn＞10)の中間に位置する．ナビエ・ストークス方程式は成立しないのでボルツマン方程式に基づいて流れを解析する．解法としては，分子運動をシミュレートするモンテカルロ直接法（DSMC法）が適している．プラズマプロセス用の装置では装置内の圧力pが0.1～10Paになっていることが多い．λ(mm)はほぼ7/p(Pa)なので，Lを約30mmとすると，装置内の流れは中間流からすべり流の範囲にある．