キーワード: 企画・特集

訓練機関紹介(トライボロジー):ジャパン・アナリスト(株)

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-28/

はじめに 当社は1975年、潤滑油分析および設備診断の先駆者であり、オイル分析の世界トップ会社である米国Analysts Inc.と油圧機器・油圧緩衝器の国内トップメーカーのKYB(旧カヤバ工業)との50:50の合弁会社として発足した。以来約40年間、我が国におけるオイル分析によ…Read More

認証者による活用例 周波数変調解析法によるすべり軸受ラビング早期検出技術

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-29/

はじめに すべり軸受は、蒸気タービンやスクリューコンプレッサーなどの高速回転機器やディーゼルエンジンやレシプロコンプレッサーなどの高負荷機器に用いられている重要な機械要素である。通常の回転軸は油膜によりすべり軸受とは非接触で回転しているが、施工不良によるミスアライメントや熱変形に…Read More

座談会 資格認証事業の準備と運営開始

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-33/

2004年に第1回の認証試験を開始してから、今年(2023年現在)で20年を迎える機械状態監視資格認証事業の運営開始の背景について、2023年9月14日に日本機械学会会議室およびオンライン会議にて、初代委員長 岩壺氏と2代目委員長 松田氏を迎えて、現委員長の藤原が当時の話を伺った…Read More

機械状態監視資格認証事業

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-04/

機械状態監視技術者認証制度 国際規格の制定 ISOでは古くから多くの工業製品が国際標準化されて、材料、部品などの国際的な流通に役立ってきた。近年では、ISO14000、 9000シリーズに環境や品質管理が規定されて久しい。現在では、工場内で働く技術者の品質を規定するに至り、専門技…Read More

機械状態監視診断技術者(振動)認証事業の現状

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-06/

はじめに 機械状態監視診断技術者に関する認証制度の骨格がISO 18436-1(機械の状態監視及び診断-技術者の訓練及び認証に関する要求事項-第1部:認証機関及び認証過程に関する要求事項)として2003年に発行され、その一分野として振動による機械状態監視診断技術者(以降、振動診断…Read More

認証事業(トライボロジー)の概要

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-10/

はじめに 2008年10月に成立したISO18436-4を受けて、日本機械学会では日本トライボロジー学会と共同で機械状態監視診断技術者(トライボロジー)の資格認証の準備を進めてきた。そして、2009年10月17日(土)に第1回認定試験(カテゴリⅠのみ)を実施した。それ以降、202…Read More

機械状態監視における振動関連規格

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-14/

関連規格について 振動を用いた状態監視は、定期的に測定した振動の変化に基づき機械の診断を行う技術である。そこで用いられる診断基準の多くがISO規格によって定められている。ここでは、振動を用いた状態監視技術者が知っておくべき、関連規格について紹介する(1)。国際規格は「TC108:…Read More

機械状態監視に用いるトライボロジー関連規格

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-16/

はじめに 多くの動的要素からなる機械において、摩耗や焼付きに起因する機械要素のトライボロジー的な機能劣化にどう対処するかは重要な課題であり、メンテナンスと極めて密接な関係がある。そのため、軸受や歯車などのトライボ要素に用いられる潤滑油の性状変化や混入物の有無を調べて機械の状態を監…Read More

状態監視振動診断技術者コミュニティ

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-18/

趣旨 状態監視振動診断技術者コミュニティは、2010 年7月、認証者の診断技術力のフォローアップと情報交換の場の確保を目指して日本機械学会の中に結成された。関連委員会および関連部門、関連学協会の団体との連携をとりながら、コミュニティの輪を広げており、2023年で13年目となる。本…Read More

資格取得までのながれと訓練機関紹介

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-22/

機械状態監視資格認証の資格取得までのながれを下記の図で示した。 また、P23~28では日本機械学会が認定した訓練機関を紹介する。 <フェロー> 藤原 浩幸 ◎防衛大学校 機械工学科 教授 ◎専門:機械力学、回転機械の振動

訓練機関紹介(振動):旭化成エンジニアリング(株)

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-23/

はじめに 当社は、日本でも早い時期(1970年代半ば)から、振動診断を中心とした設備診断技術の研究開発や現場への導入を図ってきており、診断システムの商品化にも積極的に取り組んできている。1988年には、診断技術の専門グループを立ち上げ、旭化成グループをはじめ、社外各社にも診断技術…Read More

訓練機関紹介(振動):新川センサテクノロジ(株)

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-24/

国内No.1の訓練機関を目指して カテゴリⅠ~Ⅳまで執り行う国内唯一の認定訓練機関 当社は東広島市にあり、状態監視保全のための設備診断に使われる渦電流方式の非接触変位・振動計からモニタリング機器および診断ソフトウェアまでを一貫して製造している会社である。計測器メーカーだが、振動診…Read More

訓練機関紹介(振動):IMV(株)

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-25/

会社案内 IMVの事業紹介 IMV(株)は、振動を中心とした三つの事業を展開している。 環境を再現する「振動シミュレーションシステム(振動試験装置・複合試験装置)」は製品が受ける振動環境を再現する。動電式システムにおける海外・国内共にシェアNo.1を誇る。 振動状態を定量化する「…Read More

訓練機関紹介(振動):JFE アドバンテック(株)

No.1260, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1260-26/

はじめに JFEアドバンテック(株)について 当社は、1973年11月に当時の川崎製鉄(株)〔現 JFEスチール(株)〕の計量器工場が分離独立して誕生した産業用計測器のメーカーである。本社・工場は、兵庫県西宮市に所在し、機械状態監視と診断に必要となる振動法によるポータブル診断機器…Read More

触媒表面を基準面とした光学材料、半導体材料表面の超平滑化エッチング法

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-14/

はじめに ラッピングのような定盤を用いた砥粒加工においては、被加工物表面の凸部から選択的に除去加工が進行することで能率的に定盤の形状を転写することができるが、砥粒による機械的な加工によって表面の原子配列は乱れ、いわゆる加工変質層が残留する。一方、ウェットエッチングなどの化学反応を…Read More

電解液を用いない環境調和型電気化学機械研磨

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-18/

はじめに パワー半導体SiCの研磨技術の動向 SiCウェハおよびそれを用いたパワーデバイスの飛躍的な普及には、ウェハ加工技術の高度化が要求されることは論を待たない。とりわけ、最終研磨工程に用いられるChemical mechanical polishing(CMP)では、SiCに…Read More

アクリル板と水による原子レベル平坦化加工法

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-22/

はじめに 半導体材料や光学材料を素子として用いる場合、その表面の平坦化は欠かせない。CeO2やSiO2などの金属酸化物を含むスラリーをかけながら柔らかい研磨パットを表面に押し付け加工を行うことが一般的である。 一方で、微粒子と薬品を含むスラリーによる研磨技術は、環境負荷が高いとい…Read More

単結晶ダイヤモンド基板のドライ/ウエット加工法

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-26/

はじめに ダイヤモンドは、高硬度かつ化学的に安定であることから、切削工具や超硬合金金型の代替型などをはじめ、さまざまな分野で用いられている(1)。最近になって、パワー半導体デバイスの開発を目的とした単結晶ダイヤモンド基板の研究・開発が精力的に行われはじめている(2)〜(5)。これ…Read More

レーザ照射を援用した高能率CMP(Chemical Mechanical Polishing)

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-30/

はじめに 半導体製造に不可欠なCMPとパワーデバイス材料 半導体デバイス製造において必要不可欠なプロセスとして、研磨プロセスの一種であるCMP(Chemical Mechanical Polishing)が適用される。CMPは、化学反応を援用して対象基板の表層を改質し、機械的研磨…Read More

「ナノ製造プロセスの最前線」特集によせて

No.1259, https://www.jsme.or.jp/kaisi/1259-06/

はじめに ナノ製造プロセスの理念 加工とは、目的とする機能を発現させるために、設計した通りの形状、あるいは物性を有する表面を創成することである。われわれ人類は、いかに便利で快適な生活ができるかという思いのもとに、多種多様な生産活動を行って発展し続けてきたわけであるが、その発展は加…Read More