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高真空中（1×10-2Pa以下）で蒸着材料（アルミニウムなどの金属や有機化合物など）を加熱蒸発させ，成形品表面上に物理的にたい積させ，蒸着材料の薄膜を形成する装置．装置は抵抗加熱，高周波誘導加熱，電子ビーム加熱で蒸着材料を蒸発させる蒸発源，真空に保つ真空排気系からなる．成形品には自公転する保持装置，フィルムには巻取装置が真空チャンバ内に取付けられている．
