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OH基が取り込まれた基板表面の親水性をトリメチルシリル化し疎水性に改質する表面処理で，清浄なシリコン基板表面とレジストなどの有機膜との間の密着性を向上させることができる．HMDSは，hexamethyldisilazaneの略称である．
