はじめに

ナノ製造プロセスの理念

加工とは、目的とする機能を発現させるために、設計した通りの形状、あるいは物性を有する表面を創成することである。われわれ人類は、いかに便利で快適な生活ができるかという思いのもとに、多種多様な生産活動を行って発展し続けてきたわけであるが、その発展は加工技術の進展が支えてきたと言っても過言ではない。有史以来、加工技術に対しては常に高品質化と高精度化が求められてきたが、現在では、半導体デバイスにおいて線幅10ナノメータを切る超微細な回路パターンの形成に不可欠なEUVL（Extreme Ultra Violet Lithography）露光機用の反射ミラーから半導体デバイス用のウエハ、身近な例では携帯電話のカメラ用の非球面レンズに至るまで、ナノメータ精度の形状とサブナノメータオーダの表面粗さの実現が加工技術には求められている。